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創純半導體超純水設備工藝流程為：原水箱---原水泵---多介質過濾器---活性炭過濾器---保安過濾器---一級增壓泵---一級反滲透---二級增壓泵---二級反滲透---純水箱---EDI泵---保安過濾器---EDI裝置---紫外線殺菌器---拋光樹脂---氮封水箱---用水點
整個系統根據現場實際情況，采用玻璃鋼反滲透膜殼，配以陶氏8040反滲透膜，產水量2噸/小時，EDI產水電阻率18MΩ·cm。
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